(주)제4기한국기업정보

반도체 제조용 기계 제조업

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업력 34년차
1991년 2월 6일 설립
54 명

출처: 국민연금

사원수

업종: 반도체 제조용 기계 제조업
대표자명: 백태일
홈페이지: http://www.jesagi.co.kr
사업내용: 플라즈마 이온질화시스템,플라즈마 세정시스템,전자부품,컴퓨터주변기기 제조,무역
주소: 경기 시흥시 엠티브이25로58번길 17
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기업비전

NICE 평가정보 출처 : 설립일, 업종, 대표자명, 사업내용, 주소
국민연금 출처 : 사원수
기업 직접입력 : 홈페이지, 기업비전

우리는 단단하게 성장하고 있어요

2013
- 09월
  CE획득 (Turn table Plasma System ) JSTPS-21R
2012
- 12월
  세계일류상품인증 (지식경제부)
- 07월
  Turn Table Plasma System
2011
- 10월
  PNL Flow Plasma System
2010
- 11월
  국무총리 표창(한국무역협회)
- 08월
  판넬 플라즈마 장비 개발
- 04월
  기업부설연구소 이전(안산지점)
2009
- 10월
  고밀도 플라즈마용 Plower Supply개발
- 01월
  ISO14001:20004 인증 (플라즈마 크리닝장비,디스미어장비외)
- 01월
  CE 마크 획득 (Plasma Etcher System)
2008
- 12월
  세계일류상품 인증서(지식경제부)
- 03월
  CE 획득 (Plasma Desmear System)
- 03월
  고밀도 플라즈마 세정시스템 개발
- 03월
  200KHz 고전압 Pulse Power Supply개발
- 02월
  100KHz 고전압 Pulse Power Supply개발
2007
- 10월
  CE 획득 (Flow plasma system)
- 06월
  마이크로 웨이브 플라즈마 시스템 개발
- 04월
  전자동 플라즈마 박판처리 시스템 개발
2006
- 11월
  매거진 처리용 전자동 플라즈마 시스템 개발
- 09월
  웨이퍼 자동 세정 시스템 개발
- 03월
  신기술인증서(과학기술부)
- 01월
  CE 획득 (Plasma cleaning system)
- 01월
  중국법인 설립(SUZHOU JS) 중국소주
2005
- 07월
  ISO14001:2004 획득
2004
- 10월
  ISO9001:2008 획득
- 03월
  플라즈마 임가공 처리센타 설립 (안산) PCB, Packaging, SMT
2003
- 06월
  신기술인정서 KT마크획득(과학기술부)
2002
- 10월
  듀얼 파워 플라즈마 시스템 개발
- 03월
  자동 연속 플라즈마 세정/에칭 장치개발
2001
- 08월
  플라즈마 VOC 정화장치개발/플라즈마 용융 SYSTEM 개발
- 04월
  U.V 하수 살균 장치 개발
2000
- 12월
  기술경쟁력우수기업 지정(중소기업청)
- 10월
  Noise 차폐형 특수 Transformer 개발
- 07월
  폐수처리용 고전압 Nano Pulse Power Supply개발
- 05월
  Microwave Plasma Supply 및 Plasma System개발,/200kw Pulse Plasma Power Supply개발
- 03월
  Dual Power를 이용한 반도체 Packaging용 Plasma Cleaning 공정개발/Plasma Etching공정 및 System개발
- 01월
  우수계류 부품소재 품질인증서(산업자원부)
- 01월
  PLASMA DESMEAT SYSTEDM 개발
1999
- 11월
  중앙연구소 등록(과학기술처)
- 11월
  기업부설연구소 등록(한국산업기술진흥협회)
- 07월
  POWER SUPPLY 인버터.컨버터 협력사 등록 : POSCON
- 06월
  투자회사 지정(한국산업은행)
- 06월
  발전설비 부품의 Plasma 표면경화 공정개발(Westing House 품질인증)
- 03월
  수출지원대상업체지정 (중소기업청)
- 02월
  고진공 Annealing System&공정개발(초경소결품,Zr,Ti등 특수합금속용)
1998
- 06월
  벤처기업 지정(인천지방중소기업청)
- 06월
  PLASMA CLEARING SYSTEM 개발
- 01월
  SOFT START 개발(50HP 이하)
1997
- 11월
  플라즈마 토치(고온) 개발
- 11월
  100KW PULSE POWER SUPPLY 개발
- 05월
  고진공 Annealing & 탈가스 처리시스템 & 공정개발
- 04월
  본사 이전 : 인천시 남동구 고잔동 705-9
- 02월
  고주파/고압 소형 TRANS 개발
1996
- 12월
  유망중소기업 선정(중소기업은행)
- 10월
  우수자본재 개발 표창장 수상(통상산업부)
- 09월
  3차원 표면을 위한 Plasma 표면 세정시스템 개발 스퍼터 토치(고온)개발
- 08월
  유망선진기술기업 지정 (중소기업청)
- 06월
  기술개발시범기업 지정(기술신용보증기금)
- 06월
  PVD SYSTEM 개발
- 03월
  PECVD SYSTEM개발/유해가스 정화용 Pulse Power 개발
- 03월
  CUTTING TOOL/ 개발
1995
- 12월
  기술혁신상 대상 수상 (통상산업부)
- 11월
  EM 마트 획득(플라즈마 시스템)
- 11월
  병역특례업체 지정(병무청)
- 06월
  기술혁신상 수상 (공업진흥청)
- 01월
  PULSE POWER플라즈마 이온질화기 개발
1993
- 11월
  대기압 플라즈마 세정 SYSTEM 개발
- 10월
  전해 붕화 처리 SYSTEM 개발
- 05월
  고진공 열처리로 개발
- 03월
  플라즈마 임가공처리 센타 설립(인천) PCB, Packaging, SMT
- 03월
  DC플라즈마 이온질화 SYSTEM 개발
- 01월
  상호 변경 : (주)제4기한국
1992
- 03월
  상공부지정 기계류 국산화 대상업체 선정
1991
- 12월
  플라즈마 세정/에칭/디스미어 기술개발
- 10월
  플라즈마 표면경화 기술개발
- 04월
  무역협회 가입(한국무역협회)
- 02월
  (주)태성유니버샬 설립

출처 : NICE평가정보

우리는 이렇게 구성되어 있어요

직원 남녀성비

73.3% 남성

26.7% 여성

남성직원
여성직원

사업부문 비중

기타(합계)49.7%
생기팀기계19.4%
제어팀16.4%
생기팀설계14.6%

기타(합계)
생기팀기계
제어팀
생기팀설계

근속 연수

평균 근속연수12.9년

기술1팀 20년

업무지원 14년

연구소 11년

기타(합계) 6년 6개월

출처 : NICE평가정보

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2024-11-29 업데이트 되었습니다

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